半導(dǎo)體真空蒸鍍工藝中行星鍋的用處

行星鍋是半導(dǎo)體真空蒸鍍工藝中的核心基片承載部件，主要適配電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等鍍膜場(chǎng)景，通過(guò)獨(dú)特的運(yùn)動(dòng)結(jié)構(gòu)為薄膜沉積質(zhì)量提供支撐。作為蒸鍍腔體內(nèi)的關(guān)鍵組件，行星鍋可實(shí)現(xiàn)基片的公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)復(fù)合運(yùn)動(dòng)，適配晶圓、柔性基材等多種半導(dǎo)體基片的鍍膜需求，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、光伏電池、精密光學(xué)元件等制造領(lǐng)域，其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與運(yùn)行穩(wěn)定性直接關(guān)聯(lián)薄膜厚度均勻性與成膜品質(zhì)。

行星鍋的核心用處是優(yōu)化基片受力與鍍膜覆蓋效果。在高真空環(huán)境下，行星鍋承載基片后，通過(guò)合理調(diào)控運(yùn)動(dòng)速率，使基片各區(qū)域均勻?qū)?zhǔn)蒸發(fā)源，減少因蒸鍍角度偏差導(dǎo)致的薄膜厚度不均問(wèn)題，同時(shí)改善基片微結(jié)構(gòu)表面的臺(tái)階覆蓋特性，助力提升薄膜保形能力。

行星鍋還能適配多規(guī)格基片與規(guī)模化生產(chǎn)需求。其多工位設(shè)計(jì)可同時(shí)承載多片基片同步鍍膜，提升單位時(shí)間產(chǎn)出效率；搭配球面結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使基片與坩堝液面保持恒定距離，適配不同蒸發(fā)材料與蒸鍍參數(shù)，減少工藝波動(dòng)。

此外，行星鍋可輔助降低生產(chǎn)損耗。其耐高溫、抗腐蝕的材質(zhì)特性，能適配蒸鍍工藝的嚴(yán)苛環(huán)境，減少部件損耗；模塊化結(jié)構(gòu)便于拆卸清潔，縮短設(shè)備停機(jī)維護(hù)時(shí)間，為半導(dǎo)體真空蒸鍍工藝的連續(xù)化作業(yè)提供支撐。