電子束蒸發(fā)臺(tái)行星鍋在真空蒸鍍工藝中的作用

發(fā)布時(shí)間:2026-01-13
在工藝實(shí)施階段,蒸發(fā)臺(tái)行星鍋的運(yùn)動(dòng)參數(shù)可根據(jù)基片規(guī)格與膜層需求調(diào)整,適配不同半導(dǎo)體器件的蒸鍍要求。它與蒸發(fā)臺(tái)坩堝、離子源弧光室等配件協(xié)同工作,在真空環(huán)境下為靶材蒸發(fā)與基片成膜提供穩(wěn)定工況,減少膜層缺陷。

蒸發(fā)臺(tái)行星鍋是電子束真空蒸鍍工藝中承載與驅(qū)動(dòng)工件的關(guān)鍵部件,直接影響薄膜沉積質(zhì)量與工藝穩(wěn)定性。在半導(dǎo)體薄膜制備過(guò)程中,電子束蒸發(fā)臺(tái)通過(guò)高能電子束轟擊坩堝內(nèi)靶材使其蒸發(fā),而蒸發(fā)臺(tái)行星鍋可帶動(dòng)基片實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)復(fù)合運(yùn)動(dòng),有效彌補(bǔ)電子束蒸發(fā)各向同性與視線傳播特性帶來(lái)的膜層厚度差異問(wèn)題,讓基片各區(qū)域均勻接收蒸發(fā)物質(zhì),提升膜層一致性。同時(shí),其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可集成承片圈與蓋板組件,避免基片在運(yùn)動(dòng)中發(fā)生位移、摩擦,減少顆粒產(chǎn)生,維持膜層純度。

在工藝實(shí)施階段,蒸發(fā)臺(tái)行星鍋的運(yùn)動(dòng)參數(shù)可根據(jù)基片規(guī)格與膜層需求調(diào)整,適配不同半導(dǎo)體器件的蒸鍍要求。它與蒸發(fā)臺(tái)坩堝、離子源弧光室等配件協(xié)同工作,在真空環(huán)境下為靶材蒸發(fā)與基片成膜提供穩(wěn)定工況,減少膜層缺陷。合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)還便于拆裝與清潔,降低工藝中斷概率,提升生產(chǎn)效率。

此外,蒸發(fā)臺(tái)行星鍋能通過(guò)多工位布局設(shè)計(jì),同時(shí)承載多個(gè)基片進(jìn)行批量蒸鍍,在提升產(chǎn)能的同時(shí),確保同批次基片的膜層性能一致性。其在真空蒸鍍工藝中的適配性與功能性,為半導(dǎo)體器件制備提供了可靠的工藝支撐,是電子束蒸發(fā)設(shè)備中不可或缺的核心配件之一。